挑战EUV光刻！全新芯片技术量产：华人首创建
发布时间：2021-10-29 15:48:12 所属栏目：通讯 来源：互联网
导读：EUV是一种曝光设备，它可以根据发出的光的种类减少工序数量并节省时间和金钱。 现有的半导体材料氟化氩具有193nm的光波长。波长越短，可以雕刻出更精细的电路。使用氟化氩，以某种方式可以实现7nm的制程工艺。但在这之下就很难了。由于台积电、三星等主要代
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EUV是一种曝光设备，它可以根据发出的光的种类减少工序数量并节省时间和金钱。
现有的半导体材料氟化氩具有193nm的光波长。波长越短，可以雕刻出更精细的电路。使用氟化氩，以某种方式可以实现7nm的制程工艺。但在这之下就很难了。由于台积电、三星等主要代工企业已达到5nm及以下的工艺，氟化氩曝光设备面临限制。
EUV设备克服了这一限制。EUV的波长为13.5nm，可以实现5nm以下的工艺。
因此，全球生产先进制程（10nm以下）的芯片代工企业都在努力引进 EUV 设备，这使得EUV供给非常紧张。如果有需求，可以通过增加供应来平衡。
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